Valentyn Odnoviun

Jautrūs paviršiai: spalva kaip politinis barometras

„Jautrūs paviršiai“ tyrinėja kintančias Lietuvos bažnyčių fasadų spalvas. Nedideli dažytų sienų fragmentai fotografuojami naudojant spalvų paletę ir paprastą rėmą, todėl pagrindiniu objektu tampa ne bažnyčia kaip architektūrinė visuma, bet pati spalva.

Projekto atspirties taškas – mintis, kad bažnyčios spalva niekada nėra visiškai neutrali. Sovietmečiu daugelis religinių pastatų prarado dalį viešo matomumo: vieni buvo uždaryti, apleisti, pritaikyti kitoms funkcijoms arba vizualiai įtraukti į kasdienį miesto audinį. Kreminiai, blyškūs ar neutralūs tonai galėjo padėti bažnyčiai atrodyti mažiau išsiskiriančiai iš aplinkos. Kartu religija išliko kaip tęstinumo, atminties, o kartais ir tylaus pasipriešinimo forma.

Šiandien šie paviršiai kalba kitaip. Kai kurie fasadai perdažomi spalvomis, susijusiomis su senesnėmis tradicijomis, restauravimo sprendimais, vietos atmintimi ar atsinaujinusiu religijos matomumu. Kitos bažnyčios lieka apleistos ir pamažu perimamos gamtos. Šia prasme spalva tampa savotišku politiniu barometru, ji fiksuoja kintantį santykį su religija, viešąja erdve, istorija ir priklausymu vietai.

Projektas nėra orientuotas į sienas apskritai ir į dekoratyvius nykimo raštus. Koncentruojamasi į spalvą kaip į jautrų paviršių, į tai, kas gali slėpti, išsaugoti arba atskleisti politinio ir religinio gyvenimo pokyčius.

Valentyn Odnoviun – menininkas, tyrėjas ir kuratorius, gyvenantis ir dirbantis Lietuvoje. Jo kūrybinė praktika sukoncentruota į fotografijos, atminties, represinių sistemų, stebėjimo, politinio smurto, architektūrinių pėdsakų ir materialių istorijos liekanų tyrimą. Autoriaus darbuose fotografija veikia kaip meninio tyrimo, liudijimo ir atminties aktyvavimo forma.

Odnoviunas studijavo fotografiją, medijų meną, vizualiuosius menus bei meno teoriją ir istoriją Vilniaus dailės akademijoje, Miuncheno dailės akademijoje, Lodzės dailės akademijoje ir Lietuvos kultūros tyrimų institute, kur tęsia doktorantūros studijas. Jis dėsto fotografiją ir fotografijos istoriją Vilniaus dailės akademijoje, yra Šiaulių fotografijos muziejaus kuratorius.

Odnoviuno kūriniai yra Lietuvos nacionalinio dailės muziejaus, Tatrų muziejaus Zakopanėje, NOMUS Naujojo meno muziejaus Gdanske, „AkzoNobel Art Foundation“ Amsterdame ir kitose kolekcijose. Autoriaus darbai pristatyti personalinėse ir grupinėse parodose Lietuvoje, Lenkijoje, Latvijoje, Čekijoje, Vokietijoje, Slovėnijoje, Nyderlanduose, Ukrainoje, JAV ir kitose šalyse. Jis yra knygų „PW44“ ir „Surveillance. A Typology of Oppression“ autorius.

Už kūrybinę veiklą Odnoviunas yra pelnęs tarptautinių įvertinimų, tarp jų – „LensCulture Critics’ Choice Award“ (2025), „Prix Pictet“ (2024) ir „FOAM Paul Huff Award“ (2021) nominacijos, „Photolux Award“ (2019), Lietuvos fotomenininkų sąjungos (2018) apdovanojimas, „Walter Koschatzky Art Award“ (2017), „INTERPHOTO Grand Prix“ (2017), „World Biennial of Student Photography“ (2018) apdovanojimai ir kiti įvertinimai.